使用超純水設備的好處

產(chǎn)品特點：

1.去除懸浮顆粒和沉淀  2.除去溶解性離子  3.去除氣體  4.防止膜堵塞，保護RO膜  5.可降低能耗，節(jié)約資源

超濾系統(tǒng)：據(jù)原水水質(zhì)、回收率及產(chǎn)水量等因素確定膜組件的組合方式

產(chǎn)品特點：

1.去除溶解性離子  2.去除微生物和病毒  3.提高水質(zhì)   4.保障產(chǎn)水的穩(wěn)定性   5.降低企業(yè)生產(chǎn)成本

產(chǎn)品特點：

EDI的作用就是通過除去電解質(zhì)(包括弱電解質(zhì))的過程，將水的電阻率從0.05～1.0MΩ·cm提高到5～16MΩ·cm

產(chǎn)品特點：

無化學析出的核子級樹脂，去除純水中殘余的微量帶電離子及弱電解質(zhì)，使水質(zhì)達到18MΩ·cm以上

產(chǎn)品特點：

終端供水泵能夠?qū)崿F(xiàn)不降壓設備切換，可選擇恒壓、恒流控制方式

集成電路使用超純水設備可以用于清洗集成電路的制造設備和工藝中的各個環(huán)節(jié)，包括晶圓清洗、蝕刻、沉積等。它能夠去除雜質(zhì)、顆粒和化學物質(zhì)，確保在制造過程中的高純度和無污染

半導體行業(yè)對生產(chǎn)用水的要求非常嚴格，以下是一些常見的半導體行業(yè)生產(chǎn)用水標準：

1. 電阻率：通常要求超過18兆歐姆·厘米（MΩ·cm），有時甚至要求更高的值。
2. 離子含量：各種離子的含量都要限制在極低的濃度，例如陽離子和陰離子都要控制在納克級別以下。
3. 顆粒物含量：通常要求顆粒物濃度小于1個每升。
4. 高純水（HPW）：高純水是指相對較高純度但不同于超純水的水質(zhì)標準。常見的高純水標準包括：
5. 電阻率：通常要求在2-10兆歐姆·厘米（MΩ·cm）范圍內(nèi)。
6. 離子含量：各種離子的含量也需要在較低的水平上進行控制，但比超純水標準寬松一些。
7. 顆粒物含量：通常要求顆粒物濃度小于1個每升。

可根據(jù)客戶需求定制，出水達行業(yè)用水標準